钝化产品CVD涂层特点及优势分析

钝化技术是以材料表面涂覆CVD涂层来实现的，CVD是一种通过化学气相沉积的方法应用于材料表面的技术。



CVD（化学气相沉积）是一种将挥发性前体（通常是在真空下）注入腔体内的反应过程，腔室加热到反应温度，使前体气体发生反应或分解生成所需的涂层并与材料表面结合。随着时间推移，涂覆材料建立在表面上并在暴露部分的表面形成涂层。

例如，如果想把硅附着在材料表面，需要使用三氯硅烷(SiHCl₃)前体，当SiHCl₃在腔室加热时，分解和涂层反应如下：

SiHCl₃→ Si + Cl₂+ HCl

硅将结合到任何暴露的表面（内部和外部），而氯气和盐酸气体将从腔室排放并根据适当的法规要求进行清除。



CVD涂层系统中使用的材料从硅化合物到碳化合物，到氟碳或有机氟，以及类似氮化钛这样的氮化物。一些材料如硅，可以通过掺杂表面（改变或添加额外的化学物质）来进一步增强涂层的功能，以达到特定的性能目标。

化学气相沉积不同于物理气相沉积（PVD）等其他常见的涂层应用方法，与化学气相沉积相比，大多数常见的涂层喷涂工艺会导致视线外盲区不均匀的涂覆存在，化学气相沉积涂层理论上可以应用于涂层气体能进入的任何区域，下图形象表示出两种涂覆的区别。




SilcoTek®公司CVD涂层工艺的特点：

·在高温下应用以促进反应；

·涂装前必须清除零件表面的污染物；

·涂层气体将覆盖零件的所有区域，包括螺纹、盲孔和内部表面；

·涂层在反应过程中粘结到表面，与典型的PVD涂层相比，创造了优越的附着力。

SilcoTek®公司CVD涂层的优势：

·可广泛应用于各种基材，包括金属和金属合金、陶瓷，玻璃；

·可喷涂精密表面和复杂表面，包括密封区域和内部表面；

·能承受低温、高温温度变化；

·持久的涂层与基材结合意味着涂层在高应力环境中保持结合，即使基材表面弯曲也能适应。

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